电子工业专用设备2024年04期
- 趋势与展望
- 氧化镓材料及其制备方法与工艺现状胡凡;谢添乐;陈庆广;黎昆;邓家乐;万胜强;
- 材料制造工艺与设备
- 200 mm SiC外延炉及同质外延工艺研究谢添乐;李苹;杨宇;巩小亮;巴赛;陈国钦;万胜强;
- 垂直布里奇曼法制备碲化汞晶体技术研究段晋胜;张红梅;王宏杰;
- 基于锗激光标识的正交实验设计康洪亮;
- 半导体制造工艺与设备
- 基于CMP运行过程数据可视化分析系统的研究与实现贾若雨;白琨;李嘉浪;
- 电子束曝光机子系统光柱控制器设计何远湘;龙会跃;梁文彬;苏鑫;
- 用于MLCC叠层工艺的设备设计与实现杨志;马红雷;
- 硅片双面研磨过程数学模拟及分析吴建光;
- PTPC在化学机械平坦化中的应用白琨;贾若雨;岳爽;李嘉浪;
- 测试·测量技术与设备
- 微波探针台屏蔽腔体的设计及仿真李俊;张世强;荆茂盛;
- 自动测试技术在MEMS硅腔滤波器工艺中的应用王晓倩;杨志;
- 基于差分进化的FSK信号频率检测仿真曾石磊;刘晓慧;修万顺;
- 电子专用设备研究
- 装备制造企业智能仓储系统解决方案谢瑜;
- 制绒上料插片机稳定性提升方法研究朱江江;
- 针对键合晶圆的视觉与机械夹持预对准方法设计李康平;刘冰鑫;周占福; 收起目录
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